BOSS/ヘーゼル

概要

出現エリア：Forest

建築物の設置を主体としているボス。
デッキの回転率が悪かったり、建築物をターゲットにできないスペルをメインに据えていると、フィールドが建築物だらけになり苦戦を強いられる。

ヘーゼルの行動パターン

1列ミサイル

• 縦1列にミサイルを召喚し、自陣へ向けて発射してくる。ミサイルのHPは40のため破壊できれば問題ないが、すれ違うことで回避したり建築物を設置することで凌いだりできる。
  • このとき縦1列の破壊タイルを修復してから若干のラグを挟んで召喚する。この修復直後と召喚完了までに破壊タイルにできれば召喚を阻止できる。
    
• ダミーミサイルの可能性がある。攻撃判定である黄色タイルがミサイルより1タイル前に存在しているとき、ミサイルの前へ行くとミサイルが自壊する。しかし攻撃判定がずれている場合でも自壊しないときがあるため攻撃での破壊を優先したほうが良い。(バグの可能性も有)

ランク4～

• 時間を置いてもう1列ミサイルを飛ばしてくる。
  ランクが上がるごとにミサイルの数が増え、ランク6以上で4連になる。
  すり抜けだけでは避けられない場合が出てくるので、スペルでの破壊も必要。

衝撃波

• 自キャラを追尾する衝撃波を繰り出す。衝撃波の合間にすれ違うことで避けたり、誘導することで避けることが可能。ヘーゼルが設置した建築物にもダメージが入る。
• ランクと同じ回数連続で行う。
• 衝撃波は1タイル前進する毎に自キャラと同列でない場合、同列になるように上下1タイルに移動する性質を持つ。敵キャラのマチブセが行う攻撃によく似ている。ヘーゼルのいる位置によっては、誘導しきれない死角が出来たりする。

ランク4～

• 連射スピードが上がる。

ガンタレット設置

• 敵陣前列1タイルに一定間隔で直線状に弾を発射するガンタレット(HP60)を設置する。4列全てに設置されると逃げ場が無くなるので、速やかな破壊を心掛けたい。
• 設置と同時に弾を発射するので設置予定場所の直線上で待機することはお勧めしない。

ランク2～

• ガンタレットの設置後、時間差でシールド+30とスペルパワー+10を建築物に付与する。強化付与はガンタレットに限らず、全ての建築物が対象。
  スペルパワー強化は時限制で、効果時間はおよそ10秒。ただし強化を重ねがけされると効果時間がリセットされる。
  シールドは永続なので、攻撃して削らない限り減ることはない。
• プレイヤーが置いた建築物にもバフが入るので、逆利用することも可能。

ランク3～

• 付与するバフの数値が増える。
  最大ランクの7ではシールド+80、スペルパワー+60を付与する。

火炎放射器設置

• 自陣最上段のいずれかに下3タイルを攻撃する火炎放射器(HP60)を設置する。
• 自陣を直接攻撃できるスペルが無い場合、最上段全てを埋められてしまうとかなり苦しくなる。配置され次第なるべく早めに処理しておきたい。
• 最上段のガンタレットを敢えて放置しておくことで、火炎放射器を破壊してもらうという戦法も有効。

ランク4～

• 変化なし

ブラストクリスタル設置

• ブラストクリスタル(HP60)を2個設置してくる。クリスタルは破壊されると1発の弾を正面方向に放つ。
  ビームクリスタルと比べ、弾が貫通しない代わりに火力が高く、速く飛んでくるので素早い対応が必要。
• 衝撃波など別の攻撃が当たることで時間差攻撃と化すことがあるので、余裕があるうちに撤去しておきたい。

ランク4～

• 設置数が増え、4列全てに召喚してくる。
  連続で使われるとブラストクリスタルが重なって即破壊され、回避困難な弾幕が展開されることがあるため注意。

ビームクリスタル設置

• ビームクリスタル(HP60)を2個設置してくる。クリスタルは破壊されると直線上のタイル全てを攻撃するビームを発射する。
  ブラストクリスタルと比べ、破壊からビーム照射までに若干のラグがある代わりに、貫通属性を持ち建築物などを間に置いても防げない。

ランク4～

• 変化なし

ブロックとビームクリスタル設置 & プレス

• 自陣前から3列に大量のブロック(HP60)＆敵陣前1列に2つのビームクリスタルを設置後、自陣後ろから敵陣前1列まで1列ずつ順番に縦4タイルのプレス機攻撃を行ってくる。
  ブロック設置予定場所にキャラクターがいるとダメージを受けてしまうので空きタイルに入り込んだほうが良い。
  自陣最後列に閉じ込められてしまった場合は、プレス攻撃が来る前に何らかの手段でブロックを撤去して隙間に逃げ込みたい。
  プレスとプレスの間には時間が少し空くので、自キャラの後ろがプレスで空いたらすぐに下がればよい。
• シールドを獲得している場合、最前列でブロック生成のダメージをあえて受けると安全に回避可能。待っている間は攻撃チャンスにもなる。
• 直前にビームクリスタルが敵陣に設置されていた場合、プレスで破壊された後にビームを照射してくるので上下移動で回避。

ランク2～

• プレス機攻撃が2列になる。
  最後列に閉じ込められた際に連続ダメージを受ける危険性が増える。
• ランクが上がるにつれ、ブロックの隙間も減っていく。

ランク4～

• プレスが4列連続になる。
  安全地帯は3回目のプレスの時が最右列、4回目は最左列とかなり限定される。4回目はビームクリスタルが壊されるためクリスタルの直線上にいないようにしよう。
• 最後列に追い詰められた場合、素早くブロックを破壊できる手段が無ければ、もれなくプレスの餌食になる。そこそこの火力があり貫通属性を持つスペルを持っておきたい。
  • 召喚されたビームクリスタルを破壊することでビームを照射させ、ブロック一列を一掃する方法も有効。ウォーターフォールなど4タイル先を攻撃するスペルをメインにしている場合には、こちらの手段で切り抜けるのがお勧め。

有効なスペル・アーティファクト

• ソウルリンク、サイネット
  • プレス攻撃に合わせてヘーゼルを痛覚共有にするとそれだけで勝ててしまうことも。
• 強化C(貫通)
  • 建築物の後ろにいるヘーゼルを攻撃できる。ブラストクリスタルとビームクリスタルには注意。
• スパイクストリップ
  • 建築物を召喚した直後にダメージを与えて破壊しやすくする。強化済みだと尚刺さる。
• イッセン、チュチュ
  • 複数の建築物を少ないコストで破壊できる。
• サルベージ
  • 建築物を撤去すると同時にマナとシールドを獲得できる。

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