道中は中ボスがおらず短めだが、ボスは5面に引き続き難関。
スペルカード枚数は7枚と多く、いくつかの弾幕には弾消しが効かないものがある。
5面で消耗していても、道中の稼ぎを加味すれば1～2回はエクステンド可能。最後まで諦めないように。
道中
このステージの怨霊は全て撃ち返しとして全方位赤鱗弾を放ってくる。(way数等は難易度や種類によって変化する)
特に高難易度では非常に激しくなるのでノーショットでやり過ごした方が良い。
開幕は重力落下する3way紫小弾をばら撒いてくるので気合い避け。
その後は自機狙い青小弾を撃ってくるのでちょん避け。
次に自機に突っ込んできながら黄小弾をばら撒く怨霊。
Eなら黄小弾を撃ってこないので切り返してちょん避けでOK。
NHでは粗い自機狙いだと思って避ける。画面半分くらいで切り返すと良い感じ。
Lでは黄小弾がかなり速いので怨霊を左右に振りなるべく正面に来させないようにする。下から撃たれた弾に当たるのを防ぐ為最下段で避けると良い。
異変攻撃が強力な機体であれば最初は撃たずにチョン避けで欠片を出し、撃ち返し弾が届く前に異変攻撃が発動するぐらいのタイミングで撃ち始めるのが良いか。
再び開幕と同じ紫小弾をばら撒く怨霊が現れるが、途中から小ピラミッドが左→右→左→右の順に乱入してくる。こちらは弾幕がキツく撃ち返しは無いので速攻したいところ。
紫小弾をばら撒く怨霊のうち、一番左は打ち返しを覚悟で倒しておかないと次の速攻に支障が出る。
避けるのがキツい場合は黄色が出てきたあたりでボムを撃つと次の緑もまとめて処理できる。
その後大量の八面体が降り注ぐ。すぐに異変敵ゲージが溜まるので稼ぎどころだが、装備によってはショットが異変敵に届きにくいため稼ぎ量にはかなり差が出る。霊夢かつ火力不足の装備ならボムって稼ぐのもあり。
ボス通常攻撃その1（磐永阿梨夜）
E:11,N:28,H:32,L:38wayの20連ランダム全方位青石弾。敵機真下に陣取って避ける。
弾の初速が遅く一時停止もするためインペリシャブルムーン支援がとても有効。通常2,4も同様。
それ以外でも難易度はそこまで高くないが、弾速が速いのでボムで飛ばして良い。
この通常に限らず阿梨夜の通常は体力が低いため、まともに避けず1ボムで飛ばせる。リソースと避け能力との兼ね合いでボムを撃つか決めておこう。
石神「巌となるさざれ石」(E/N/H/L)
自機の位置を大きく空けて、画面全体に青結晶弾が上から順に設置され、その後ランダムに角度を変えて崩れる。この繰り返し。
中央最下段で、位置を微調整しながら粘る。
自機外しの判定は設置と同時に行われるため、余程大きく動かない限り設置される弾に当たることはない。
なお、第一波の展開に合わせて高速移動で下がることで、弾に大きく穴を開けることもできる。要練習。この過程で多くグレイズするので異変攻撃ゲージも貯められる。
H以上ではそこまでしなくてもボスに密着して弾が設置されたら適当にグレイズすれば貯まる。
ボス通常攻撃その2
通常1の発射間隔が短くなったもの。更にHは34way,Lは42wayに増えている。
敵機が細かく動くので避け辛い。ボムを使うのもあり。
死符「永遠の冬」(E/N)
死符「恒久の冬」(H/L)
自機狙いの青結晶弾が縦列になって発射され、画面端で反射する。時間経過とともに弾がバラけていく。
またある程度画面内に残存している弾の数が減ると即座に次の弾が放たれる。
正確に四隅を回り続ければ一波目はかなり楽に避けられる。速すぎても反射がばらけて行く手を遮られるのでなるべく引きつけてから移動するようにする。
バラけても弾密度には濃淡があり、濃いところに捕まると危険。
だが、回っているだけでは誘導装備以外は撃ち込めない。
普通に避けても弾が反射せず画面端から捌け始めたら2波目の合図なので、敵機から離れておこう。
非常に抱えやすいので、めんどくさいなと思ったら早めにボム。
インペリシャブルムーンとの相性が良い装備なら、うまく調整して発動させたら正面で撃ち込んでいるだけで弾を撃ち続けて勝手に自滅してくれる。
弾の発射方向の反対側でボスに密着すると弾の発射が止まる。かなり密度を落とすことができる。
ボス通常攻撃その3
E:16,N:34,H:40,L:44wayの単純な全方位石弾。
四色で目がチカチカするので、「自分が反射で避けられるギリギリ下限のライン」を見るとよい。
生符「混沌の冬」(E/N/H/L)
四方に発射された四色の結晶弾が画面端で反射する。時間経過とともに弾がバラけていく。
この弾幕もある程度画面内の弾数が減るとすぐに補充される。
この為開幕やボム使用後は阿梨夜に張り付くことで大量の異変石のかけらを入手できる。
画面中央で始め、第一波が反射しきるかしきらないかのタイミングで左右どちらかの端に逃げ、画面上部をぐるりと回って再び中央に陣取るとよい。
しっかり打ち込めていれば第1波のうちに撃破できる。
これも抱えやすいので決めボムも検討。
恒久の冬同様、弾の発射方向の反対側でボスに密着すると弾の発射が止まる。正面で密着すると上斜め方向の弾が出ないのが分かりやすい。
ボス通常攻撃その4
E:1,N:3,H:4,L:5wayの30連石弾列。
大魔法「魔神復誦」の最終段階、聖から放たれる弾列を自機依存にしたような弾幕。
最下段で避けるか敵の周りを回って避けるかの二択。
列の端は弾が重なり不可避となる。前スペカ終了時や、異変敵を倒した際に上部回収すると列が大きく崩れてしまうので注意。
「弾幕の化石」(E/N/H/L)
全画面に黄石弾を設置、その後一定間隔でボスから自機の位置に大光弾を発射。
発射した大光弾は角度ランダムで全方位に拡散する。石弾と拡散前の大光弾は弾消し耐性有。
Eでは石弾の設置量が大幅に減り大光弾の拡散も10wayとなっている。(N以上では18way)
H以上では自機狙い以外に左右にも大光弾を放つ。(Hで2つLで4つ)
設置石弾は最下段が安地。
自機のいる座標にも容赦なく設置してくるので、安全な高さを覚えている場合以外は開幕最下段に移動すること。
自機狙いの大光弾を右下と左下に交互に誘導するようにして避ける。効果音を聞いて誘導のタイミングを合わせるのも可。
真横にとんできた弾を避ける為最下段より一つ上の段も利用することが重要。
X軸の位置はランダムだが、Y軸は常に固定で一列横並びに配置される。
したがって、縦移動には精密操作が求められるが横移動には制限がない。
開幕時ボスの正面、体力ゲージの円を目安にすると密着で安全な高さを見つけやすい。
ボス通常攻撃その5
固定レーザーを撃つので簡単…と思いきやレーザーを撃っている最中に移動するため、ランダム要素がある。
正面で隙間に入るのは非常に判断が難しいので、阿梨夜から遠い方の隅で避けるのが安定。
もしくは1ボムで安定しよう。
他の通常以上に柔らかいので攻撃の合間に撃ち込むだけでも十分削りきれる。
Normal以降は同じ弾幕になっている模様。
地符「幻想のリリクウィー」(E/N/H/L)
設定ミス？でNormal以降は同じ弾幕になっている。
画面上部Easyは5つ、Normal以上は9つの弾源から6way白石弾が降ってくる。
実質角度の違う3種類の交差弾になるのでそれらを避けていく。
ボスは動かず、横に逃げても均等に弾が降ってくるのでできるだけ正面を維持して縦移動のみで避ける。
難易度はそこまで高くないが白石弾には弾消し耐性があるので注意。
正面少し下、体力バーに重なるぐらいの位置だとすべての交差弾が当たらない。
月符「錦の上のイマジナリー」(E/N/H/L)
画面下部のEasyは4つ、Normal以上は7つの弾源から7way小弾が昇ってくる。最上部に到達した小弾は粗い自機狙い白中弾に変化する。ボスは定期的にメイン異変石と同じ色の小ピラミッド型の敵を放ってくる。
小ピラミッドを破壊すると周囲に弾消し効果があるが、狙って行うのは難しい。
自機狙いを左右に誘導しつつ、下からの交差弾を避けながら撃ち込む。
自機の高さをなるべく固定して避けるのが良い。交差弾への対応がしやすくなる。
ボスの少し下の体力ゲージと重なる高さあたりは、3wayしか届かない上それが一点を通るので、真上に登ってくる弾を見てるだけで避けられる。ただしボスの体当たりを喰らうことがある高さなので注意。
「ストーンゴッデス」(E/N)
「不生不滅の石の女神」(H/L)
最終スペルお馴染みの発狂弾幕。ボム、異変敵の撃破、異変攻撃の効果等で弾は消えない。被弾時の弾消しも無効。ひたすら気合。
全4段階に変化し新たな色の石弾が追加されていく。段階移行時にはいったん弾消しがある。
1～2段階目は低速だが高密度なため高めの位置で避けないと詰みやすい。高速弾の混じる3～4段階目になるとさらに鬼門となる。
最終段階で追加される赤弾は自機狙い気味に飛んでくるので切り返しが要求され難易度が跳ね上がる。
ボムは効かないと思いきや、ダメージは極小になるものの一応効くのでボムゲーも可能ではある。
全段階において黄色弾は画面下端に到達すると一度だけ画面上端から戻ってくる。
段階移行に時間をかけすぎると戻ってきた黄色弾で余計に苦しくなるため打ち込みをちゃんと意識すること。
ちなみに画面上端に到達した場合下端から戻ってくるのだがこの時射出直後の黄色弾はワープせず時間が経ってからワープするため突然現れた黄色弾に轢かれることがある。開幕で誘導する際は正面に戻る時下がりすぎないよう注意。
自機ばかり見ていると簡単に詰むので、低段階から自機上方も見ることを意識したい。
詰み回避のため、また回避と打ち込みを両立するためには、一定の高度を保つことが有効。
例えば「弾速の遅い黄弾が最下段付近で交差する」と予測が立った際、最下段まで下がって避けるのではなく、今空いている隙間を抜けるよう意識すること。
Lでは黄弾の弾源が画面下まで張り出し、上下移動にリスクが伴うようになり、また弾量も増え大幅に詰みやすくなっている。